随着光电产业的蓬勃发展，各种光学薄膜陆续被开发出来。就涂布而言，这些光学薄膜产品的特点包括：
1.均匀度要求很高；
2.涂料黏度很低：涂料黏度可能<10cps；
3.厚度超薄：
以抗反射膜为例，对单层涂布，当nd=λ/4 时，可得破坏性干涉，也就是反射率为0 ，其中n为涂层折射率，一般都在1~2 之间， d 为涂层厚度，λ为入射波波长， 介于400~700nm ，因此，涂层干膜厚度都小于0.2μm，可预期湿膜厚度可能低至1μm 。
因而要生产此类产品，就必须开发超薄涂布技术。图一是各种可能的超薄涂布技术。
在成卷基材超薄涂布的各种可能方法中，将依续介绍微凹版印刷式涂布、张力基材挤压式涂布、毛细管式涂布、水相表面展开式涂布等几种方法；在非连续基材超薄涂布的各种可能方法中，旋转涂布法(Spin Coating)为大家所熟知，挤压式涂布法(Extrusion Coating)应用在LCD 光阻涂布，在此不多做说明，此一部分仅介绍液面弯曲式涂布。
以下即针对这些涂布方法加以说明。
因而要生产此类产品，就必须开发超薄涂布技术。
图一是各种可能的超薄涂布技术。
在成卷基材超薄涂布的各种可能方法中，将依续介绍微凹版印刷式涂布、张力基材挤压式涂布、毛细管式涂布、水相表面展开式涂布等几种方法；
在非连续基材超薄涂布的各种可能方法中，旋转涂布法(Spin Coating)为大家所熟知，挤压式涂布法(Extrusion Coating)应用在LCD 光阻涂布，在此不多做说明，此一部分仅介绍液面弯曲式涂布。以下即针对这些涂布方法加以说明。
圖一
微凹版印刷式涂布
微凹版印刷式涂布是日本Yasui Seiki公司的专利技术，其结构如图二(a)，与传统凹版印刷式涂布（图二(b)）相较，异同如下。
圖二(a)、圖二(b)
